厂家直供Ti-15Si at% 钛硅合金 金属靶材 钛硅合金靶材

钛硅靶材

名称：钛硅（TiSi）靶材Titanium Silicon Alloy Sputtering Target

成分：TiSi5 at%,TiSi 10at%,TiSi15 at%,TiSi20 at%,TiSi25 at%,TiSi75 at%.

纯度：99.5%，99.8%，99.9%,99.95%,

形状：平面靶，柱状靶，电弧靶，异型靶等等。

钛硅（TiSi）靶材在反应沉积过程中与氮气反应，能理想的形成超硬的氮化物涂层。涂层中的硅元素保证了其高抗氧化性，硬度则由钛元素来保证，即便在较高的温度下，氮化钛硅涂层也有很优异的耐磨性。涂有氮化钛硅涂层的不仅有优异的耐磨性，还可以进行干式切削，可加工的材料包括镍基合金和钛合金等**级合金。

北京瑞弛凭其多年在工模具领域制作靶材应用的经验，采用真空电弧熔炼的Ti-15Si at%靶材，以其成分均匀、气体含量低、纯度高等优点，深受客户的欢迎；同时，公司开发了Ti-15Si at%、Ti-20Si at%和Ti-25Si at%等成分的靶材，使用公司采用高纯原料生产的特种粉末，通过精细磨粉和混粉，采用热等静压的方法，制备出的成分均匀、纯度高、密度高、力学性能优良的TiSi靶材。我公司生产的TiSi靶，力学性能优良，可以很好的防止靶材断裂，并且由于粉末的充分熔合，在使用过程中，可以大大减少熔滴的产生，沉积的涂层表面光洁度更高，广泛应用于工模具涂层领域。